目前芯片制造流程中，光刻工艺是最复杂，耗时最长，成本最高，也是最为核心的工艺，而光刻则需要光刻机。
而光刻机，主要掌握在ASML的手中，一家占了全球90%左右的份额。
特别是EUV光刻机，全球仅它一家能够制造，像浸润式DUV光刻机，实际上也是ASML为王，尼康虽然有，但份额非常低。
所以，全球的芯片制造企业，都得看ASML的脸色，一旦ASML卡住光刻机，大家都得抓瞎。
不过，好消息是，目前国产光刻机厂商们，也在努力，从实际情况来看，离浸润式DUV，其实也就只有一步之遥了。
目前国内最强的光刻机厂商，是上海微电子，成立于2002年，至今已经有23年的历史了。
在其官网上，大家可以查到，公布出来的最强的光刻机是SSX600系列，可以用于90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺，可以用于8寸，12寸。
这种光刻机，其它也属于干式DUV的一种，采用的是193nm的光线。DUV单次曝光下，理论上是达到65nm的，但可以通过多次曝光，最高实现28nm工艺。
而干式DUV的下一步，就是浸润式DUV，浸润式DUV与普通干式DUV，唯一的区别就是多了一个浸润式系统。
何为浸润式系统，简单的来理解，就是光线在照射硅片前，会进入一层水的介质，光线进入水之后，会产生折射，193nm波长的光线，就相当于134nm了。
波长越短，分辨率就越高，所以浸润式光刻机，可以实现从65nm-5nm芯片的制造。
很明显，上海微电子的光刻机技术，其实在光源等上，与浸润式DUV是相同的，就差了这个浸润式系统，所以我说是最后一步了。
当然，这一步并不容易，因为浸润式系统，不只是加一层水那么简单，需要控制光线的投射，还要控制光线的方向，然后再让经过水的光线去照片硅晶圆……
但不管怎么样，我们相信接下来，先不说EUV光刻机，至少浸润式光刻机离我们不会太远了，一旦突破，我们进入5nm就毫无困难了。
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